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LPCVD氮化硅薄膜的室温可见光发射
引用本文:刘渝珍,石万全,韩一琴,刘世祥,赵玲莉,孙宝银,叶甜春,陈梦真. LPCVD氮化硅薄膜的室温可见光发射[J]. 半导体学报, 2000, 21(5): 517-520
作者姓名:刘渝珍  石万全  韩一琴  刘世祥  赵玲莉  孙宝银  叶甜春  陈梦真
作者单位:中国科技大学研究生院!北京100039(刘渝珍,石万全,韩一琴,刘世祥),中国科学院微电子研究中心!北京100010(赵玲莉,孙宝银,叶甜春),中国科学院微电子研(陈梦真)
基金项目:中国科技大学校科研和教改项目;;
摘    要:在4.66eV的激光激发下,在室温下LPCVD氮化硅薄膜可发射高强度可见光,其峰位位置分别为2.97,2.77,2.55,2.32,2.10和1.90eV的6个PL峰,建立了可见光发射的能隙态模型,讨论了发光机制

关 键 词:激发   LPCVD   光致发光   能隙态模型
文章编号:0253-4177(2000)05-0517-04
修稿时间:1998-12-26

Luminescence from Silicon Nitride Film by LPCVD
LIU Yu|zhen,SHI Wan|quan,HAN Yi|qin,LIU Shi|xiang,ZHAO Ling|li+,SUN Bao|yin+,YE Tian|chun+ and CHEN Meng|zhen. Luminescence from Silicon Nitride Film by LPCVD[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2000, 21(5): 517-520
Authors:LIU Yu|zhen  SHI Wan|quan  HAN Yi|qin  LIU Shi|xiang  ZHAO Ling|li+  SUN Bao|yin+  YE Tian|chun+   CHEN Meng|zhen
Affiliation:LIU Yu|zhen,SHI Wan|quan,HAN Yi|qin,LIU Shi|xiang,ZHAO Ling|li+1,SUN Bao|yin+1,YE Tian|chun+1 and CHEN Meng|zhen 1
Abstract:With 4^66eV laser excitation,six photoluminescence emission peaks of LPCVD silicon nitride film are observed corresponding to 2^97,2^77,2^55,2^32,2^10 and 1^90eV respectively. The gap state model of LPCVD silicon nitride film have been made in this paper.The origin of these emission peaks are discussed.
Keywords:excitation  LPCVD  photoluminescence  energy gap state model
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