| 分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究 |
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| 引用本文： | 陈世杰. 分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究[J]. 微细加工技术, 1995, 0(3): 8-13 |
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| 作者姓名： | 陈世杰 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所 |
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| 摘 要： | 本文讨论了套刻误差的组成及误差模型的建立，并介绍了套刻误差的表示方法。套刻误差教学模型对于光刻机整机套刻精度的估计、对于光刻机的多机（单机）套刻匹配等工作将会是一个非常重要的工具。
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| 关 键 词： | 光刻机 套刻 套刻误差 误差模型 曝光 |
OVERLAY ERROR MODEL OF WAFER STEPPEK |
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| Chen Shijie. OVERLAY ERROR MODEL OF WAFER STEPPEK[J]. Microfabrication Technology, 1995, 0(3): 8-13 |
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| Authors: | Chen Shijie |
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| Abstract: | In this paper,an overlay error model of stepper is introduced.this modelcan be used to estimate overlay accuracy of a stepper and overlay matching ofmultiple wafer steppers. |
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| Keywords: | wafer stepper overlay overlay error |
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