| CVD金刚石膜在光滑衬底表面成核研究的进展 |
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| 引用本文： | 杨国伟 毛友德. CVD金刚石膜在光滑衬底表面成核研究的进展[J]. 微细加工技术, 1995, 0(4): 43-46 |
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| 作者姓名： | 杨国伟 毛友德 |
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| 作者单位： | 湘潭大学物理系，合肥工业大学应用物理系 |
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| 摘 要： | 本文叙述了化学气相沉积金刚石薄膜过程中，金刚石在光滑非金刚石衬底表面的成核行为，讨论了目前用于提高金刚石成核密度的一些典型方法的优点和不足。
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 薄膜生长 薄膜成核 化学气相沉积 |
REVIEW ON NUCLEATION OF CVD DIAMOND FILMS ON SMOOTH SUBSTRATE SURFACE |
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| Yang Guowei. REVIEW ON NUCLEATION OF CVD DIAMOND FILMS ON SMOOTH SUBSTRATE SURFACE[J]. Microfabrication Technology, 1995, 0(4): 43-46 |
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| Authors: | Yang Guowei |
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| Abstract: | The diamond nucleation action on the smooth surface of non-diamond sub-strates during the CVD diamond films formation iS introduced.The advantagesand disadvantages of some typical methods presently used to increase diamondnucleation density are discussed. |
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| Keywords: | diamond film heteroepitaxy nucleation thin film growth |
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