|
|||||
|
|
| 电子束直接曝光机简介 | |
| 引用本文： | 郑国强.电子束直接曝光机简介[J].微细加工技术,1995(3):72-76. |
| 作者姓名： | 郑国强 |
| 作者单位： | 甘肃平凉市电子部第４５研究所 |
| 摘 要： | 电子束直接曝光机简介郑国强（甘肃平凉市电子部第４５研究所，７４４０００）１引言电子束曝光技术是集光、机、电、计算机和超高真空技术为一体的综合性技术，它可以把亚微米工艺的集成电路和器件图形直接光刻在Ｓｉ和ＧａＡｓ等圆片上。电子束直接曝光设备在军事微电子... |
| 关 键 词： | 电子束曝光机 曝光 光刻 半导体器件 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |