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| 溅射过程的理论推导 | |
| 引用本文： | 赵光兴 杨国光. 溅射过程的理论推导[J]. 微细加工技术, 1995, 0(3): 14-19 |
| 作者姓名： | 赵光兴 杨国光 |
| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 |
| 摘 要： | 本文通过引入溅射模型，对溅射过程进行了推导与计算，得到溅射速率的解析式，与Ｒｏｌｅ等人所得公式比较表明，本文所得公式能更好地述溅射过程，并且表明，选择合适的入射离子参数（入射能量和入射角）可以减小溅射损伤。 |
| 关 键 词： | 离子束溅射 溅射 溅射过程 |
THEORETICAL STUDY ON SPUTTERING PROCESS |
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| Zhao Guangxing, Yang Guoguang. THEORETICAL STUDY ON SPUTTERING PROCESS[J]. Microfabrication Technology, 1995, 0(3): 14-19 | |
| Authors: | Zhao Guangxing Yang Guoguang |
| Abstract: | |
| Keywords: | ion beam sputter sputtering rate |
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