裂变室技术堆外中子探测器原理及与传统电离室的比较

所谓裂变室是指在腔内加涂了一层铀的电离室。裂变室技术的中子通量探头其基本原理也是与普通电离室相同。均为将腔室内的填充气体电离,从而生成电流脉冲。与普通电离室不同的是裂变室能够在应用于源量程的脉冲计数,因为由于裂变室产生的电流脉冲远大于普通电离室所产生的脉冲电压。在裂变室中,中子的撞击导致涂铀层的铀元素裂变,产生的铀元素裂片再去电离填充气体从而产生电流脉冲。在不同的阶段由于中子注量率水平的不同,我们采用两种方式对电流脉冲进行测量从而测得中子注量水平。当中子注量率越来越高时,所产生的电流脉冲也会越来越密集,这导致脉冲的堆积。这样的话就没办法区分单个的脉冲因此无法再采用脉冲计数法。但同时脉冲堆积情况的发生生成了一个波动的直流电流。