| 衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘汉法,张化福,郭美霞,史晓菲,周爱萍.衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响[J].真空科学与技术学报,2011,31(1):95-99. |
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| 作者姓名： | 刘汉法 张化福 郭美霞 史晓菲 周爱萍 |
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| 作者单位： | 山东理工大学理学院,淄博,255049 |
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| 摘 要： | 利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化锌(ZnO∶Ti,TZO)透明导电薄膜。研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影响。结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响。TZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在衬底温度为100℃时,实验获得的TZO薄膜电阻率具有最小值2.95×10-4Ω.cm,400℃时薄膜出现孪晶,随着温度的升高,薄膜应力具有减小的趋势。实验制备的TZO薄膜附着性能良好,可见光区平均透过率都超过91%。
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| 关 键 词： | ZnO∶Ti薄膜 透明导电薄膜 衬底温度 磁控溅射 |
Growth and Characterization of Ti-Doped ZnO Films by DC Magnetron Sputtering |
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| Liu Hanfa,Zhang Huafu,Guo Meixia,Shi Xiaofei,Zhou Aiping.Growth and Characterization of Ti-Doped ZnO Films by DC Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2011,31(1):95-99. |
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| Authors: | Liu Hanfa Zhang Huafu Guo Meixia Shi Xiaofei Zhou Aiping |
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| Affiliation: | (School of Science,Shandong University of Technology,Zibo 255049,China) |
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