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氮化硅套圈内圆磨削及回归分析
引用本文:吴玉厚,王强,王贺,张珂.氮化硅套圈内圆磨削及回归分析[J].沈阳建筑工程学院学报(自然科学版),2013,29(1):156-162.
作者姓名:吴玉厚  王强  王贺  张珂
作者单位:沈阳建筑大学交通与机械工程学院,辽宁沈阳,110168
基金项目:国家自然科学基金项目(50975182);教育部创新团队支持计划项目(IRT1160);辽宁省自然科学基金项目(20102186);沈阳建筑大学青年基金项目(2011210)
摘    要:目的 研究磨削工艺参数:砂轮的粒度、线速度(vs)、轴向振荡速(fa)和径向进给速度(fr)对氮化硅套圈内表面粗糙度的影响.方法 采用树脂结合剂金刚石砂轮对氮化硅陶瓷套圈内圆进行单因素磨削加工实验,进行了4因素的正交实验.利用Taylor-Hobson Surtronic25型接触式粗糙度仪测量被磨工件表面粗糙度,通过回归分析得出了加工表面粗糙度的回归方程.结果随着砂轮粒度的减小,加工表面粗糙度由0.31 μm下降到0.23 μm.随着砂轮线速度的提高,被磨表面粗糙度由0.28 μm升高到0.39μm,然后下降到0.33 μm.砂轮轴向振荡速的提高,使被磨表面粗糙度波动变化.砂轮径向进给速度提高对加工表面粗糙度的影响不明显.结论 明确了不同磨削参数对加工氮化硅陶瓷套圈内表面粗糙度的影响.利用正交实验法,将实验结果进行了回归分析,得出了氮化硅陶瓷套圈内表面粗糙度Ra的预测模型.

关 键 词:氮化硅  磨削  粗糙度  回归分析

Grinding and Regression Analysis of Silicon Nitride Ferrule Internal Surface
WU Yu-Hou , WANG Qiang , WANG He , ZHANG Ke.Grinding and Regression Analysis of Silicon Nitride Ferrule Internal Surface[J].Journal of Shenyang Archit Civil Eng Univ: Nat Sci,2013,29(1):156-162.
Authors:WU Yu-Hou  WANG Qiang  WANG He  ZHANG Ke
Affiliation:(School of Traffic and Mechanical Engineering Shenyang Jianzhu University,Shenyang,China 110168)
Abstract:
Keywords:
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