| 一种双靶磁控溅射制备的Mg掺杂的NiO薄膜 |
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| 引用本文： | 王新,丛凡超,罗明海.一种双靶磁控溅射制备的Mg掺杂的NiO薄膜[J].微电子学,2024,54(1):145-148. |
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| 作者姓名： | 王新 丛凡超 罗明海 |
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| 作者单位： | 长春理工大学 物理学院, 长春 130022 |
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| 基金项目： | 吉林省科技发展计划项目(20220101036JC); 国家自然科学基金资助项目(11874091) |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射“共溅射”方法，将Ar气作为溅射气体，高纯NiO和MgO双陶瓷靶作为溅射靶材。当控制NiO和MgO靶的溅射功率分别为190 W和580 W,溅射真空度为2 Pa,衬底温度为300℃时，得到了Mg掺杂的NiO(Ni0.61Mg0.39O)薄膜。该薄膜是一种具有(200)择优取向的晶态薄膜。薄膜表面比较平整，晶粒分布致密，晶粒尺寸约46.9 nm。(200)衍射峰位置相对未掺杂的NiO薄膜向小角度偏移约0.2°。合金薄膜在可见光波段具有较大的透过率，而在300 nm附近透过率陡然下降，其光学带隙向高能方向移动到了3.95 eV。该研究为采用磁控溅射制备高质量的Mg掺杂的NiO薄膜提供了技术支撑。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 共溅射 Mg掺杂的NiO薄膜 带隙 |
| 收稿时间： | 2023/9/8 0:00:00 |
A Mg-Doped NiO Thin Film Fabricated by Magnetron Sputtering Method Using Double Targets |
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| WANG Xin,CONG Fanchao,LUO Minghai.A Mg-Doped NiO Thin Film Fabricated by Magnetron Sputtering Method Using Double Targets[J].Microelectronics,2024,54(1):145-148. |
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| Authors: | WANG Xin CONG Fanchao LUO Minghai |
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| Affiliation: | School of Physics, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, P. R. China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering co-sputtering Mg-doped NiO thin film bandgap |
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