|
|||||
|
|
| 气体循环条件下等离子体喷射CVD金刚石膜的生长稳定性和品质 | |
| 作者姓名： | 牛得草 李成明 刘政 郭世斌 吕反修 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;高等学校博士学科点专项科研基金 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | CVD金刚石膜 气体循环 直流电弧等离子喷射 生长稳定性 残余应力 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |