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AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管解析模型
引用本文:杨燕,王平,郝跃,张进城,李培咸. AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管解析模型[J]. 电子学报, 2005, 33(2): 205-208
作者姓名:杨燕  王平  郝跃  张进城  李培咸
作者单位:西安电子科技大学微电子所,陕西西安,710071;西安电子科技大学微电子所,陕西西安,710071;西安电子科技大学微电子所,陕西西安,710071;西安电子科技大学微电子所,陕西西安,710071;西安电子科技大学微电子所,陕西西安,710071
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国防预研基金
摘    要:基于电荷控制理论,考虑到极化效应和寄生漏源电阻的影响,建立了能精确模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流I-V特性和小信号参数的解析模型.计算表明,自发极化和压电极化的综合作用对器件特性影响尤为显著,2V栅压下,栅长为1μm的Al0.2Ga0.8N/GaN HEMT获得的最大漏电流为1370mA/mm;降低寄生源漏电阻可以获得更高的饱和电流、跨导和截至频率.模拟结果同已有的测试结果较为吻合,该模型具有物理概念明确且算法简单的优点,适于微波器件结构和电路设计.

关 键 词:AlGaN/GaN  高电子迁移率晶体管  解析模型  极化效应  寄生源漏电阻
文章编号:0372-2112(2005)02-0205-04
收稿时间:2004-03-22

Analytical Model for AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistor
YANG Yan,WANG Ping,HAO Yue,ZHANG Jin-cheng,LI Pei-xian. Analytical Model for AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistor[J]. Acta Electronica Sinica, 2005, 33(2): 205-208
Authors:YANG Yan  WANG Ping  HAO Yue  ZHANG Jin-cheng  LI Pei-xian
Affiliation:Research Inst.of Microelectronics,Xidian University,Xi'an,Shaanxi 710071,China
Abstract:Based on the charge control theory,an accurate analytical model for the dc I-V characteristics and small signal parameters of an AlGaN/GaN high electron mobility transistor(HEMT) is developed considering the effects of polarization and parasitic source-drain resistances.Results show that the joint effects of spontaneous and piezoelectric polarization on the performance of the device are highly dominant.The proposed model predicts a maximum saturation current of 1370mA/mm at a gate bias of 2V for a 1.0μm Al0.2Ga0.8N/GaN HEMT.The calculated results also indicate that higher saturation current,transconductance,and cutoff frequency can be achieved by lowering the parasitic resistances.The comparison between simulations and physical measurements shows a good agreement.The model is simple in calculations and distinct in physical mechanism,therefore suitable for design and research of microwave device and circuit.
Keywords:AlGaN/GaN
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