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蒙特里光学会议强调光学标准的必要性
引用本文:范正修.蒙特里光学会议强调光学标准的必要性[J].激光与光电子学进展,1985,22(4):9.
作者姓名:范正修
作者单位:范正修:
摘    要:美国光学协会1984年春季会议开了两天半的光学制造和检验专题讨论会,它于1984年4月18~20日在加里福尼亚州的蒙特里举行。该会议涉及这个专题的许多方面、包括光学范围内的标准和应用,表面粗糙度和光学图象测量仪器的发展以及各种新的制备技术和检验技术。

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