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| 半导体厂的废水处理 | |
| 作者姓名： | 陈树民 |
| 作者单位： | 曙光电子管厂 |
| 摘 要： | 随着半导体工艺技术的迅速发展和生产量的增加,半导体厂排出的含氟废水量急剧地增加。废水中含复合离子的种类也增多。各工序需要处理的废水各不相同,其中腐蚀基片的废水是以氢氟酸为主的混合酸,它被排出的量最多。为了防止这些废水 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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