| 电子束曝光数据格式转换中的图形离散算法研究 |
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| 引用本文： | 魏淑华,韩立. 电子束曝光数据格式转换中的图形离散算法研究[J]. 微电子学与计算机, 2010, 27(4) |
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| 作者姓名： | 魏淑华 韩立 |
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| 作者单位： | 1. 北方工业大学,信息工程学院微电子中心,北京,100041
2. 中国科学院,电工研究所,北京,100190 |
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| 摘 要： | 开展了圆环弧类图形离散算法的研究,提出了一种以图形的曲率半径作为离散精度依据的离散算法,既保证了高的离散精度又减小了数据量,提高了数据传输效率.该算法为曝光版图中不断出现的圆环弧类图形进行精确曝光提供了保障.通过图形实例进行验证,表明此种离散方法合理,离散结果适于电子束曝光要求.
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| 关 键 词： | 电子束曝光 数据格式转换 图形离散 |
Study on Graphics Discrete Algorithm for Electron Beam Lithography Data Format Conversion |
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| WEI Shu-hua,HAN Li. Study on Graphics Discrete Algorithm for Electron Beam Lithography Data Format Conversion[J]. Microelectronics & Computer, 2010, 27(4) |
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| Authors: | WEI Shu-hua HAN Li |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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