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低介电常数聚酰亚胺材料制备的研究进展
引用本文:赵春宝,金鸿,陈森,赵玮.低介电常数聚酰亚胺材料制备的研究进展[J].绝缘材料,2010,43(2):33-37.
作者姓名:赵春宝  金鸿  陈森  赵玮
作者单位:南京信息职业技术学院,微电子学院,南京210046
基金项目:江苏省高技术研究计划,南京信息职业技术学院基金重点项目 
摘    要:综述了近年来国内外低介电常数聚酰亚胺材料的制备方法,重点讨论多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)和介孔氧化硅在降低聚酰亚胺介电常数方面的应用,并对低介电常数聚酰亚胺材料的发展前景进行了展望。

关 键 词:聚酰亚胺  介电常数  制备方法  进展

Research Progress in Preparation of Low Dielectric Constant Polyimide
ZHAO Chun-bao,JIN Hong,CHEN Sen,ZHAO Wei.Research Progress in Preparation of Low Dielectric Constant Polyimide[J].Insulating Materials,2010,43(2):33-37.
Authors:ZHAO Chun-bao  JIN Hong  CHEN Sen  ZHAO Wei
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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