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高真空电弧放电型离子镀的现状与未来
引用本文:川下安司,彭光霞.高真空电弧放电型离子镀的现状与未来[J].真空,1987(5).
作者姓名:川下安司  彭光霞
作者单位:[日本]
摘    要:高真空电弧放电型离子镀是以TiN、TiC为主体发展起来的。它获得的金属、氧化物膜具有溅射镀或蒸镀法所得不到的特性。电弧镀膜法除适用于切削工具、金属模具、装饰品的镀膜外,还将用于电子学方面。

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