高分辨X射线衍射元件的研制 |
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引用本文: | 熊瑛,刘刚,田扬超.高分辨X射线衍射元件的研制[J].传感技术学报,2014(2):168-171. |
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作者姓名: | 熊瑛 刘刚 田扬超 |
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作者单位: | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室; |
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基金项目: | 国家973计划项目(2012CB825804) |
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摘 要: | X射线波带片是纳米X射线成像系统的核心元件之一,为了研制高分辨率X射线波带片,对纳米结构的电子束光刻和高精度电镀进行了实验研究。首先,通过对电子束曝光工艺版图进行优化设计,平衡了邻近效应对纳米结构的影响,有效地控制了光刻胶的扭曲和坍塌。实验结果表明,采用校正的工艺版图,用线曝光方式在800 pC/cm2剂量下可以研制出厚度为270 nm、最外环宽度为50 nm的高分辨率X射线波带片光刻胶结构。然后,在配制的柠檬酸金钾电镀液中,优化了电镀工艺参数。采用金含量为10%的柠檬酸金钾电镀液,各电镀参数pH值为4.2,电镀温度为50℃,电流密度为0.2 A/dm2电镀出高分辨率X射线波带片。
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关 键 词: | 高分辨 X射线衍射元件 波带片 |
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