| 工艺参数对TiN薄膜光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨志远,熊金平,左禹. 工艺参数对TiN薄膜光学性能的影响[J]. 新技术新工艺, 2008, 0(8) |
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| 作者姓名： | 杨志远 熊金平 左禹 |
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| 作者单位： | 北京化工大学,材料科学与工程学院,北京,100029 |
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| 摘 要： | 在玻璃基片上用直流磁控溅射的方法制备氮化钛薄膜,研究了在不同氢气氯气流量比(λAr/N2)条件下和不同镀膜时间内所制备TiN薄膜对紫外一可见一近红外光的透光性能,以及对中远红外光反射能力影响.结果表明,随着氩氮流量比(λAr/N2)的增大,TiN薄膜在可见光到近红外区域透光性逐渐减小,但其对中远红外光反射能力不断增强.镀膜时间的增加使其方块电阻R□急剧减小,中远红外光反射率迅速升高到接近70%.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 光学性能 方块电阻 |
Influence of Processing Parameters on Optical Properties of TiN Films Deposited by Magnetron Sputtering |
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| YANG Zhiyuan,XIONG Jinping,ZUO Yu. Influence of Processing Parameters on Optical Properties of TiN Films Deposited by Magnetron Sputtering[J]. New Technology & New Process, 2008, 0(8) |
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| Authors: | YANG Zhiyuan XIONG Jinping ZUO Yu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiN |
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