| 用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究 |
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| 引用本文： | 苏玉长,尹志民,徐仲榆. 用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究[J]. 理化检验(物理分册), 2000, 36(10): 445-447 |
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| 作者姓名： | 苏玉长 尹志民 徐仲榆 |
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| 作者单位： | 1. 中南工业大学材料系,长沙,410083
2. 湖南大学新型炭材料研究所,长沙,410083 |
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| 基金项目： | 高等学校骨干教师资助计划资助，湖南省自然科学基金资助 |
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| 摘 要： | 采用原位X射线衍射技术研究了石墨在65％HNO3中的电化学插（脱）层过程，提出了一套处理XRD图谱的数据处理方法。
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| 关 键 词： | 原位X射线衍射 阶 电化学插层 石墨层间化合物 |
| 修稿时间： | 2000-07-14 |
IN-SITU X-RAY DIFFRACTION STUDY OF ELECTROCHEMICAL INTERCALATION PROCESS |
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| Su Yuchang,Yin Zhiming,Xu Zhongyu. IN-SITU X-RAY DIFFRACTION STUDY OF ELECTROCHEMICAL INTERCALATION PROCESS[J]. Physical Testing and Chemical Analysis Part A:Physical Testing, 2000, 36(10): 445-447 |
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| Authors: | Su Yuchang Yin Zhiming Xu Zhongyu |
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| Affiliation: | Su Yuchang,Yin Zhiming;(Department of Materials Science and Engineering, Central South University ot Technology);Xu Zhongyu;(The Research Institute of Naw Carbon Material Hunan University) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | In-situ X-ray diffraction Electrochemical intercalation-deintercalation Stage |
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