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双AIN插入层法在Si图形衬底上进行AIGaN/GaN HEMT的MOCVD生长
引用本文:王勇,余乃林,王丛舜,刘纪美.双AIN插入层法在Si图形衬底上进行AIGaN/GaN HEMT的MOCVD生长[J].长春理工大学学报,2011,34(4).
作者姓名:王勇  余乃林  王丛舜  刘纪美
作者单位:长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春130022;香港科技大学电子及计算机工程系光电子中心,香港;香港科技大学电子及计算机工程系光电子中心,香港
摘    要:

关 键 词:金属有机物化学气相沉积  AlGaN/GaN高迁移率晶体管  Si图形衬底  双A1N插入层
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