双AIN插入层法在Si图形衬底上进行AIGaN/GaN HEMT的MOCVD生长 |
| |
引用本文: | 王勇,余乃林,王丛舜,刘纪美.双AIN插入层法在Si图形衬底上进行AIGaN/GaN HEMT的MOCVD生长[J].长春理工大学学报,2011,34(4). |
| |
作者姓名: | 王勇 余乃林 王丛舜 刘纪美 |
| |
作者单位: | 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春130022;香港科技大学电子及计算机工程系光电子中心,香港;香港科技大学电子及计算机工程系光电子中心,香港 |
| |
摘 要: |
|
关 键 词: | 金属有机物化学气相沉积 AlGaN/GaN高迁移率晶体管 Si图形衬底 双A1N插入层 |
本文献已被 万方数据 等数据库收录! |
|