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用直流磁控溅射法对镍基合金微粒表面涂铬
引用本文:范洪远,李伟,沈保罗,唐正华,向文欣,应诗浩.用直流磁控溅射法对镍基合金微粒表面涂铬[J].新技术新工艺,2002(9):41-42.
作者姓名:范洪远  李伟  沈保罗  唐正华  向文欣  应诗浩
作者单位:1. 四川大学,610065
2. 中国核动力研究设计院,610041
摘    要:研究了用直流磁控溅射技术在80-140目的镍基合金微粒表面包覆10цm左右的金属铬膜的方法,讨论了工艺的影响和膜的性能,指出利用直流磁控溅射技术可以镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬膜,微粒的预处理和后处理对膜的附着性有重要影响。

关 键 词:镍基合金微粒  涂层  直流磁控溅射  

Surface Cr Coating Made by DC Magnetron Sputtering on Ni-alloy Particles
Abstract:
Keywords:
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