用直流磁控溅射法对镍基合金微粒表面涂铬 |
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引用本文: | 范洪远,李伟,沈保罗,唐正华,向文欣,应诗浩.用直流磁控溅射法对镍基合金微粒表面涂铬[J].新技术新工艺,2002(9):41-42. |
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作者姓名: | 范洪远 李伟 沈保罗 唐正华 向文欣 应诗浩 |
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作者单位: | 1. 四川大学,610065 2. 中国核动力研究设计院,610041 |
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摘 要: | 研究了用直流磁控溅射技术在80-140目的镍基合金微粒表面包覆10цm左右的金属铬膜的方法,讨论了工艺的影响和膜的性能,指出利用直流磁控溅射技术可以镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬膜,微粒的预处理和后处理对膜的附着性有重要影响。
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关 键 词: | 镍基合金微粒 涂层 直流磁控溅射 铬 |
Surface Cr Coating Made by DC Magnetron Sputtering on Ni-alloy Particles |
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