| 非平衡磁控溅射Ti掺杂类金刚石薄膜的基本特性 |
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| 引用本文： | 聂朝胤,谢红梅,杨娟,陈志谦. 非平衡磁控溅射Ti掺杂类金刚石薄膜的基本特性[J]. 材料热处理学报, 2008, 29(3): 147-151 |
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| 作者姓名： | 聂朝胤 谢红梅 杨娟 陈志谦 |
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| 作者单位： | 1. 西南大学材料科学与工程学院,重庆400715;等离子工学研究所,日本,大阪573-0128
2. 西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715 |
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| 基金项目： | 重庆市自然科学基金 , 西南大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 利用非平衡磁控溅射技术在镜面抛光的SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了无掺杂类金刚石(DIE)薄膜和不同含量Ti掺杂类金刚石(Ti-DIE)薄膜.利用AFM、SEM、TEM对薄膜的微观结构与形貌进行了观察,利用纳米硬度计、摩擦磨损试验仪及纳米划痕仪测试了薄膜的显微硬度、摩擦系数及薄基结合强度.结果表明:随着Ti的掺杂,薄膜硬度先迅速降低,然后保持不变,在Ti含量为25at%时薄膜硬度出现回升,膜基结合强度随Ti的掺杂呈单调增强趋势.与无掺杂类金刚石薄膜相比,掺杂Ti后薄膜表面微观凸凹增多,摩擦系数增大.对于Ti-DIE薄膜来说,随着Ti掺杂量的增加,摩擦系数出现减小的趋势.其原因在于Ti掺杂量的增加使Ti-DLC薄膜变得更加致密,同时Ti的掺杂还有利于弥补基体表面的凸凹缺陷,使薄膜变得更平滑.
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| 关 键 词： | 非平衡磁控溅射 Ti掺杂类金刚石薄膜 表面微观形貌 摩擦系数 |
| 文章编号： | 1009-6264(2008)03-0147-05 |
| 修稿时间： | 2007-06-18 |
Characteristics of titanium-doped diamond-like carbon films deposited by unbalanced magnetron sputtering |
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| NIE Chao-yin,XIE Hong-mei,YANG Juan,CHEN Zhi-qian. Characteristics of titanium-doped diamond-like carbon films deposited by unbalanced magnetron sputtering[J]. Transactions of Materials and Heat Treatment, 2008, 29(3): 147-151 |
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| Authors: | NIE Chao-yin XIE Hong-mei YANG Juan CHEN Zhi-qian |
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