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| 保护膜厚度对磁光记录薄膜磁特性的影响 | |
| 作者姓名： | 卢正启 李佐宜 缪向水 黄煜梅 刘卫忠 林更琪 胡用时 |
| 作者单位： | 华中理工大学 |
| 摘 要： | 本文利用射频磁控溅射方法制备出AIN／TbFeCo／基片磁光薄膜，在磁光记录薄膜上覆盖一层AIN介质薄膜不仅可以防止磁光记录薄膜的氧化而且可以增强磁光克尔效应。在实验中发现AIN薄膜厚度的变化也会影响磁光记录薄膜的磁特性。当AIN厚度从0开始增加时，薄膜的矫顽力随着AIN膜厚的增加而增加，在一定AIN厚度时达到最大值。然后随着AIN膜厚的增加，矫顽力逐渐减小。垂直各向异性常数随AIN膜厚的变化有着同样的规律。研究清楚这一现象对制备实用化磁光盘有着重要的意义，应用应力机制对此现象作出了圆满的解释 |
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