| 非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的抗高温氧化行为研究 |
| |
| 引用本文： | 刘安强,袁建鹏,谢建刚. 非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的抗高温氧化行为研究[J]. 热喷涂技术, 2021, 13(2): 62-68 |
| |
| 作者姓名： | 刘安强 袁建鹏 谢建刚 |
| |
| 作者单位： | 矿冶科技集团有限公司,北京100160;北京市工业部件表面强化与修复工程技术研究中心,北京 102206;特种涂层材料与技术北京市重点实验室,北京 102206 |
| |
| 摘 要： | 采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢基体上制备了TiAlN薄膜,通过精密电子天平、纳米力学探针、划痕测试仪及扫描电镜等测试分析,研究了薄膜氧化动力学行为、薄膜显微硬度和结合力的变化规律及不同温度下氧化后薄膜表面形貌演变规律,探讨了Ti AlN薄膜的抗高温氧化机制。结果表明,在700℃以上TiAlN薄膜的氧化动力学行为服从抛物线规律。随着氧化温度的升高,薄膜的显微硬度和结合力逐渐下降,当氧化温度升高到800℃时,薄膜具有较高的显微硬度和结合力,分别为19.3 GPa和32.1 N,表现出良好的抗高温氧化性能。当氧化温度升高到900℃时,薄膜表面出现了明显的鼓包和裂纹,此时薄膜发生了严重氧化,薄膜已失去对基体的保护作用。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 TiAlN薄膜 显微组织 显微硬度 抗氧化性能 |
Study on High-temperature Oxidation Resistant Behavior ofTiAlN Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering |
| |
| Liu Anqiang,Yuan Jianpeng,Xie Jiangang. Study on High-temperature Oxidation Resistant Behavior ofTiAlN Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering[J]. Thermal Spray Technology, 2021, 13(2): 62-68 |
| |
| Authors: | Liu Anqiang Yuan Jianpeng Xie Jiangang |
| |
| Affiliation: | BGRIMM technology group, Beijing Engineering Technology Research Center of Surface Strengthening and Repairing of Industry Parts, Beijing Key Laboratory of Special Coating Material and Technology |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Magnetron sputtering TiAlN films Microstructure Microhardness Oxidation resistance |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《热喷涂技术》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《热喷涂技术》下载免费的PDF全文 |
|
