| 低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜 |
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| 引用本文： | 刘力锋,陈诺夫,张富强,陈晨龙,李艳丽,杨少延,刘志凯. 低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜[J]. 功能材料, 2004, 35(4): 429-431 |
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| 作者姓名： | 刘力锋 陈诺夫 张富强 陈晨龙 李艳丽 杨少延 刘志凯 |
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| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京,100083;中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京,100083;中国科学院力学研究所,国家微重力实验室,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60176001)，国家重大基础研究计划资助项目(G20000365和G2002CB311905) |
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| 摘 要： | 利用质量分离的低能离子束技术．获得了磁性Fe-Si合金薄膜。利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性。测试结果表明在室温下制备的Fe-Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜，具有室温铁磁性。当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe-Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生．样品的铁磁性被抑制。
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| 关 键 词： | 低能离子束 硅 铁磁性 磁性半导体 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)04-0429-03 |
| 修稿时间： | 2003-09-22 |
Magnetic Fe-Si alloy films prepared by low energy ion beam technique |
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| LIU Li-feng,CHEN Nuo-fu. Magnetic Fe-Si alloy films prepared by low energy ion beam technique[J]. Journal of Functional Materials, 2004, 35(4): 429-431 |
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| Authors: | LIU Li-feng CHEN Nuo-fu |
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| Affiliation: | LIU Li-feng~1,CHEN Nuo-fu~ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | low energy ion beam silicon ferromagnetism magnetic semiconductor |
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