| PCVD—Ti（CNO）薄膜的制备及性能的研究 |
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| 引用本文： | 彭红瑞 石玉龙. PCVD—Ti（CNO）薄膜的制备及性能的研究[J]. 表面技术, 1998, 27(5): 11-13 |
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| 作者姓名： | 彭红瑞 石玉龙 |
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| 作者单位： | 青岛化工学院等离子体表面技术研究所 266042(彭红瑞，石玉龙，谢雁，李世直)，青岛化工学院等离子体表面技术研究所 266042(赵程) |
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| 摘 要： | 研究了Ｔｉ（ＣＮ）薄膜内氧的作用。研究结果表明，Ｔｉ（ＣＮ）薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构，薄膜的断口呈致密的纤维状组织。随着反应气体中空气或ＣＯ２气体流量的增加，Ｔｉ（ＣＮＯ）薄膜的硬度呈上升趋势，并在空气的流量为４０ｍｌ／ｍｉｎ或ＣＯ２的流量为１５ｍｌ／ｍｉｎ时（分别约占总量的１５％和６％），薄膜的硬度达到最大值。
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| 关 键 词： | PCVD 薄膜 等离子体沉积 钛 金属 涂层 |
Study on PCVD-Ti(CNO) Films |
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| Peng Hongrui. Study on PCVD-Ti(CNO) Films[J]. Surface Technology, 1998, 27(5): 11-13 |
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| Authors: | Peng Hongrui |
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| Affiliation: | Peng Hongrui |
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| Abstract: | This paper deals with the function of oxygen, in Ti(CNO) film prepared by PCVD. The results present that with the oxygen, the structure of Ti(CNO) films is fine grains instead of the columar grains of TiN. With the increasing of air or CO2 in reaction gases, the microhardness of Ti(CNO) films can be raised. And the highest micro-hardness of Ti(CNO) film appears when the flow rate of air is 40ml/min or CO2 15ml/min. |
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| Keywords: | Plasma CVD Ti(CNO)) films Microhardness X-ray diffraction analysis |
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