| 光刻结合热解制备高深宽比碳微结构的新方法 |
| |
| 引用本文： | 汤自荣,姚园媛,史铁林,廖广兰.光刻结合热解制备高深宽比碳微结构的新方法[J].微细加工技术,2007(4):11-17. |
| |
| 作者姓名： | 汤自荣 姚园媛 史铁林 廖广兰 |
| |
| 作者单位： | 华中科技大学,机械科学与工程学院,武汉,430074;武汉光电国家试验室,武汉,430074 |
| |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) |
| |
| 摘 要： | 将以光刻胶作为有机前驱物的热解成碳工艺与厚胶光刻工艺结合后,形成一种新的用于制备碳微结构的"C-MEMS(carbon-MEMS)"工艺,它流程简单、成本低、可重复性强且结构设计灵活.该工艺制备出的碳微结构具有较高深宽比(约为101)、良好的导电、导热和机械性能、优良的生物兼容性及化学惰性.综述了其发展过程和研究近况,介绍了该工艺的流程、可重复制备的典型结构以及一些特殊结构如碳纳米纤维等,阐明了其在三维微电池和介电电泳生物芯片等多个领域的应用,预见了该工艺可作为连接纳米、微米级结构的桥梁,将碳纳米纤维用于制备高表面积MEMS结构的前景.
|
| 关 键 词： | 厚胶光刻 热解 高深宽比 微电极阵列 |
| 文章编号： | 1003-8213(2007)04-0011-07 |
| 修稿时间： | 2007年1月10日 |
Carbon Microstructure with High Aspect Ratio Fabricated by Novel Method of Photolithography and Pyrolysis |
| |
| TANG Zi-rong,YAO Yuan-yuan,SHI Tie-lin,LIAO Guang-lan.Carbon Microstructure with High Aspect Ratio Fabricated by Novel Method of Photolithography and Pyrolysis[J].Microfabrication Technology,2007(4):11-17. |
| |
| Authors: | TANG Zi-rong YAO Yuan-yuan SHI Tie-lin LIAO Guang-lan |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | C-MEMS |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
