3.7～4.8 μm中红外带通滤光膜研制

以光学薄膜理论为出发点，系统介绍了3.7～4.8 m带通滤光膜的理论设计与优化、实际生产制备以及成品测试方法。考虑到膜料性能及膜层匹配等问题，分别选用锗和一氧化硅作为高低折射率材料，并以氧化铝作为薄膜基底。确定了滤光膜的基础膜系，并使用Filmaster软件对膜系进行了设计和优化计算。在薄膜蒸镀过程中，根据材料选取合适的镀制工艺。通过温度控制、离子辅助等方法研制出了可靠性与光谱特性皆优的带通滤光膜，并对其光谱特性及膜层质量等进行了测试。根据设计目标修改工艺参数，最终确定可行的工艺流程，从而研制出了符合光学性能设计指标的3.7～4.8 m带通滤光膜。