| 高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究 |
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| 引用本文： | 张华珺,刘钊,刘齐,张蓉. 高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究[J]. 日用化学品科学, 2017, 40(2): 11-15 |
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| 作者姓名： | 张华珺 刘钊 刘齐 张蓉 |
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| 作者单位： | 北京市药品检验所 |
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| 摘 要： | 选用霜、乳、液3类化妆品为研究对象,考察高分子沉淀剂对HPLC法检测防腐剂过程中的抗基质干扰效果。实验发现乙酸锌、亚铁氰化钾联合使用可有效去除霜、乳、液3类化妆品基质对防腐剂测定的干扰,12种防腐剂的色谱峰峰型尖锐对称,无杂峰干扰,线性相关系数均大于0.999 9,方法相对标准偏差小于2%,回收率为90%~104%。
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| 关 键 词： | 化妆品；防腐剂；高分子沉淀剂；基质干扰 |
| 收稿时间： | 2016-10-10 |
Anti-interference effect of polymeric precipitant on the substrate impurities in cosmetics during detection of preservatives by HPLC |
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| ZHANG Hua-jun,LIU Zhao,LIU Qi and ZHANG Rong. Anti-interference effect of polymeric precipitant on the substrate impurities in cosmetics during detection of preservatives by HPLC[J]. Detergent & Cosmetics, 2017, 40(2): 11-15 |
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| Authors: | ZHANG Hua-jun LIU Zhao LIU Qi ZHANG Rong |
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| Affiliation: | Beijing Institute For Drug Control |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | cosmetics preservative polymeric precipitant substrate impurities |
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