| 基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 付恩刚,庄大明,张弓,方玲,梁展鸿,吴敏生,杨伟方. 基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2003, 23(1): 12-15 |
| |
| 作者姓名： | 付恩刚 庄大明 张弓 方玲 梁展鸿 吴敏生 杨伟方 |
| |
| 作者单位： | 1. 清华大学机械工程系,北京,100084
2. 金洲集团,浙江,313000 |
| |
| 基金项目： | 国家“8 63”高技术 (No 2 0 0 1AA5 13 0 2 4)，清华大学机械工程学院“985”基础研究基金资助 |
| |
| 摘 要： | 利用中频交流磁控溅射方法 ,采用氧化锌铝陶瓷靶材 [w(ZnO) =98%、w(Al2 O3 ) =2 % ]制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜 ,观察了基体温度对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响 ,采用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析 ,采用光学分度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性 ,采用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率。结果表明 :沉积薄膜时的基体温度对薄膜的结构、结晶状况、可见光透射率以及导电性有较大的影响。当基体温度为 2 5 0℃ ,Ar分压为 0 8Pa时 ,薄膜的最低电阻率为 4 6× 10 -4Ω·cm ,方块电阻为 35Ω时 ,可见光 (λ =5 5 0nm)透射率高达 92 0 %。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 ZAO薄膜 基体温度 电阻率 透射率 |
| 文章编号： | 0253-9748(2003)01-0012-04 |
| 修稿时间： | 2002-04-29 |
Effect of Substrate Temperature on Performance of ZAO Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering |
| |
| Fu En''''gang,Zhuang Daming,Zhang Gong,Fang Ling,Liang Zhanhong,Wu Minsheng. Effect of Substrate Temperature on Performance of ZAO Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2003, 23(1): 12-15 |
| |
| Authors: | Fu En''''gang Zhuang Daming Zhang Gong Fang Ling Liang Zhanhong Wu Minsheng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Magnetron sputting ZAO thin films Substrate temperature Resistivity Transmittance |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
