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金属铀表面铝薄膜生长行为的XPS研究
引用本文:罗丽珠,刘柯钊,杨江荣,肖红. 金属铀表面铝薄膜生长行为的XPS研究[J]. 原子能科学技术, 2009, 43(5)
作者姓名:罗丽珠  刘柯钊  杨江荣  肖红
作者单位:1. 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907
2. 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900
基金项目:中国工程物理研究院基金 
摘    要:在室温、超高真空条件下,采用Ar离子溅射沉积的方法在清洁金属铀表面沉积铝薄膜,并利用X射线光电子能谱分析技术原位观察铝薄膜的生长行为.结果表明,在薄膜生长过程中,铀铝界面存在较明显的互扩散行为,同时发生一定程度的相互作用,生成金属间化合物UAlx,导致铀、铝XPS特征谱发生明显变化.铀铝间的互扩散导致U 4f谱在380.4、392.7和404.2 eV处出现新的能量损失峰;而铀铝金属间化合物的生成导致Al 2p XPS谱峰向低能端偏移0.2 eV.随沉积时间的增加,能量损失峰强度逐渐增强,Al 2p峰逐渐向金属Al特征峰位置偏移,说明随铝沉积量的增加,铀铝间的扩散行为增强,铀铝相互作用生成的金属间化合物组分并非单一.在沉积过程中,铝薄膜以岛状方式生长.

关 键 词:  铝薄膜  生长模式

XPS Study on Process of Aluminum Deposition on Uranium
LUO Li-zhu,LIU Ke-zhao,YANG Jiang-rong,XIAO Hong. XPS Study on Process of Aluminum Deposition on Uranium[J]. Atomic Energy Science and Technology, 2009, 43(5)
Authors:LUO Li-zhu  LIU Ke-zhao  YANG Jiang-rong  XIAO Hong
Abstract:
Keywords:XPS
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