| 磁控溅射法制备ZrW2O8/Cu梯度薄膜 |
| |
| 引用本文： | 程晓农,宋娟,严学华.磁控溅射法制备ZrW2O8/Cu梯度薄膜[J].硅酸盐学报,2007,35(11):1514-1519. |
| |
| 作者姓名： | 程晓农 宋娟 严学华 |
| |
| 作者单位： | 江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013;江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013;江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金
,
江苏省高校自然科学基金
,
江苏省重点实验室基金 |
| |
| 摘 要： | 在单晶硅基片上用磁控溅射法制备ZrW2O8/Cu梯度薄膜.用X射线衍射分析薄膜的物相组成,用原子力显微镜和扫描电镜对薄膜的表面形貌进行观察和分析,利用X射线光电子能谱技术对薄膜中各元素沿深度的分布情况进行检测.结果表明:溅射所得薄膜为非晶态钨酸锆与氧化铜的复合薄膜,快速热处理和氢气还原后得到立方相钨酸锆与铜的复合薄膜,在760 ℃下热处理钨酸锆的结晶度最好,而在740 ℃热处理的薄膜质量最佳,薄膜中各成分沿厚度方向呈梯度分布.
|
| 关 键 词： | 钨酸锆 铜 梯度薄膜 磁控溅射 |
| 文章编号： | 0454-5648（2007）11-1514-06 |
| 修稿时间： | 2007-05-25 |
PREPARATION OF ZrW2O8/Cu GRADIENT FILMS BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING |
| |
| CHENG Xiaonong,SONG Juan,YAN Xuehua.PREPARATION OF ZrW2O8/Cu GRADIENT FILMS BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2007,35(11):1514-1519. |
| |
| Authors: | CHENG Xiaonong SONG Juan YAN Xuehua |
| |
| Affiliation: | School of Material Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, Jiangsu, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | zirconium tungstate copper gradient films magnetron sputtering |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
