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| H2O对SnO2:F低辐射薄膜结构和性能的影响 | |
| 引用本文： | 赵洪力,刘起英,蔡永秀,张福成.H2O对SnO2:F低辐射薄膜结构和性能的影响[J].硅酸盐学报,2007,35(11):1498-1502. |
| 作者姓名： | 赵洪力 刘起英 蔡永秀 张福成 |
| 作者单位： | 1. 亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室;燕山大学材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004 2. 杭州蓝星新材料技术有限公司,杭州,310027 3. 亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室 |
| 摘 要： | 以单丁三氯化锡(C4H9SnCl3)为前驱物,三氟乙酸(CF3COOH)为掺杂元素F的引入剂,H2O为催化剂,采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃生产线上直接制备了F掺杂的SnO2膜(SnO2:F).采用X射线衍射、扫描电子显微镜、椭圆偏光仪、紫外-可见光谱研究H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响.结果表明:水对薄膜结构和性能均有显著的影响,随着催化剂H2O含量的增加,SnO2:F为四方相金红石结构,薄膜结晶度提高,致密性得到改善,膜厚有所增加,方块电阻下降.在H2O含量为1.8mol/L时效果较好. |
| 关 键 词： | 低辐射玻璃 在线镀膜 氧化锡 水 |
| 文章编号： | 0454-5648（2007）11-1498-05 |
| 修稿时间： | 2007-03-27 |
EFFECT OF H2O ON STRUCTURE AND PROPERTIES OF SnO2:F FILM |
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| ZHAO Hongli,LIU Qiying,CAI Yongxiu,ZHANG Fucheng.EFFECT OF H2O ON STRUCTURE AND PROPERTIES OF SnO2:F FILM[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2007,35(11):1498-1502. | |
| Authors: | ZHAO Hongli LIU Qiying CAI Yongxiu ZHANG Fucheng |
| Affiliation: | 1. Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology; 2. College of Materials Science Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, Hebei; 3. Blue Star New Material Technology Co. Ltd of Hangzhou, Hangzhou 310027, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | low-emissivity coated glass on-line deposition tin oxide water |
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