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Ti-Mo-N三元多层膜的结构与性能
引用本文:胡社军,曾鹏,谢光荣,黄拿灿,吴起白.Ti-Mo-N三元多层膜的结构与性能[J].材料科学与工程学报,2000,18(3):31-34,30.
作者姓名:胡社军  曾鹏  谢光荣  黄拿灿  吴起白
作者单位:广东工业大学机械系,广东,广州,510643
基金项目:广东省高教厅基金!项目 (970 0 32 ),三束材料改性国家重点实验室项目!(96 0 0 11)
摘    要:采用 Ti/ Mo复合靶 ,用多弧离子镀技术沉积了 Ti-Mo-N多元多层膜 ,并对其组织结构与性能进行了研究。结果表明 :在本试验条件下多元膜的结构形式为 (Ti,Mo) 2 N,最佳多层膜的结构形式为基体 / Ti/ Ti N/ (Tiy Mo1-y) N/ (Ti,Mo) 2 N,并具有较高的显微硬度、耐磨性和极低的孔隙率 ,在 80 0℃具有很好的抗氧化性能。在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象 ,这与靶材的结构有关。

关 键 词:多弧离子镀  Ti-Mo-N多元膜  多层膜  组织与性能

Microstructure and Properties of Ti-Mo-N Tenary Multi-layer Films
HU She-jun,ZENG Peng,XIE Guang-rong,HUANG Na-can,WU Qi-bai.Microstructure and Properties of Ti-Mo-N Tenary Multi-layer Films[J].Journal of Materials Science and Engineering,2000,18(3):31-34,30.
Authors:HU She-jun  ZENG Peng  XIE Guang-rong  HUANG Na-can  WU Qi-bai
Abstract:
Keywords:multi  arc ion plating  Ti  Mo  N film  multi  layer film  microstructure and properties  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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