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| 多指条nMOSFET抗ESD设计技术 | |
| 引用本文： | 罗宏伟,恩云飞,杨银堂,朱樟明. 多指条nMOSFET抗ESD设计技术[J]. 电路与系统学报, 2004, 9(6): 132-134 |
| 作者姓名： | 罗宏伟 恩云飞 杨银堂 朱樟明 |
| 作者单位： | 1. 西安电子科技大学,微电子所,陕西,西安,710071;信息产业部,电子五所分析中心,电子元器件可靠性物理及应用技术重点实验室,广东,广州,510610 2. 信息产业部,电子五所分析中心,电子元器件可靠性物理及应用技术重点实验室,广东,广州,510610 3. 西安电子科技大学,微电子所,陕西,西安,710071 |
| 摘 要： | 利用多指条nMOSFET进行抗ESD设计是提高当前CMOS集成电路抗ESD能力的一个重要手段，本文针对国内某集成电路生产线，利用TLP(Transmission Line Pulse)测试系统，测试分析了其nMOSFET单管在ESD作用下的失效机理，计算了单位面积下单管的抗ESD(Electro Static Discharge)能力，得到了为达到一定抗ESD能力而设计的多指条nMOSFET的面积参数，并给出了要达到4000V抗ESD能力时保护管的最小面积，最后通过ESDS试验进行了分析和验证。 |
| 关 键 词： | ESD设计 nMOSFET 多指条 |
| 文章编号： | 1007-0249(2004)06-0132-03 |
| 修稿时间： | 2004-06-04 |
ESD protection design for multi-finger nMOSFET |
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| LUO Hong-wei,,EN Yun-fei,YANG Ying-tang,ZHU Zhang-ming. ESD protection design for multi-finger nMOSFET[J]. Journal of Circuits and Systems, 2004, 9(6): 132-134 | |
| Authors: | LUO Hong-wei EN Yun-fei YANG Ying-tang ZHU Zhang-ming |
| Affiliation: | LUO Hong-wei1,2,EN Yun-fei2,YANG Ying-tang1,ZHU Zhang-ming1 |
| Abstract: | The conduction phenomenon of nMOSFET under ESD is analyzed using TLP technology. The ESD robustn ability of per unit area nMOSFET with certain foundry is estimated. Using these parameters, an ESD protection circuit w multi-finger nMOSFET for CMOS IC is designed quantificationally to meet the requirement of circuit. |
| Keywords: | ESD design nMOSFET multi-finger |
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