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杂志ISSN号
等离子体聚合膜的制备及在ISFET中的应用
作者姓名:
邵丙铣 金曼娜
作者单位:
复旦大学(邵丙铣,金曼娜),复旦大学(邵红霖)
摘 要:
本文叙述了用等离子体辉光放电法将单体直接聚合成高分子膜,及淀积在半导体器件样品上的制备设备、方法、性能及应用结果。由于设备简单,操作方便,同半导体工艺相容及聚合膜有良好的抗水性及抗离子性,它在离敏器件中有一定的应用价值。预计在其它器件中也有推广的价值。
关 键 词:
等离子体 聚合膜 ISFET 应用
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