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| 由WNi金属薄膜形成光弹波导结构的研究 | |
| 作者姓名： | 邢启江 徐万劲 |
| 作者单位： | 北京大学物理系,北京,100871 |
| 摘 要： | 平面型光电子器件具有易集成的特点，所以它一直是人们感兴趣的研究课题．光弹效应光电子器件是一种适合光电子集成的新颖平面型器件结构．自７０年代中期，人们就开始研制平面图ＩＩＩ－Ｖ族化合物半导体材料的光弹效应波导器件．然而由于不易控制引入半导体内的应力场分布，尤其是引入应力场分布的热稳定性差，因而这种平面型波导器件的制作技术没有得到广泛地使用．最近发现利用金属与半导体间的界面反应，或者样品在直流负偏压作用下射频溅射倔强系数大的金属薄膜于ＩＩＩ－Ｖ族化合物半导体表面，使金属薄膜下的半导体内形成稳定的应力… |
| 关 键 词： | WNi 光弹 波导结构 金属薄膜 |
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