利用化学和机械协同作用的CVD金刚石抛光机理与技术 |
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引用本文: | 苑泽伟,金洙吉.利用化学和机械协同作用的CVD金刚石抛光机理与技术[J].机械工程学报,2014(10). |
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作者姓名: | 苑泽伟 金洙吉 |
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作者单位: | 大连理工大学; |
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摘 要: | 正金刚石是集多种优越的物理、化学、光学和热学性能于一身的材料极品。它不但是自然界已知材料中硬度最大、摩擦因数最小、导热性能最好的材料,而且具有优良的电绝缘性、较宽的透光波段、优秀的半导体特性和化学惰性,被视为21世纪最有发展前途的工程材料,具有广泛的应用前景和巨大的市场潜力。化学气相沉积(CVD)金刚石的出现打破了天然金刚石数量稀少、尺寸过小及价格昂贵等限制,使金刚石的应用不再局限于传统的刀具和模具领域,逐渐向光学、热学、电子半导体及声学等高科技领域发展。然而由于其生长机制的限制,CVD金刚石晶粒粗大,表面粗糙度和精度较差,无法满足上述领域对金刚石超光滑、高精度和低损伤的表面质量要求。平坦化技术已经成为CVD金刚石应用于高新技术领域的关键技术之一。
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关 键 词: | 金刚石表面 CVD金刚石 天然金刚石 热学性能 生长机制 工程材料 协同作用 超光 晶粒粗大 化学作用 |
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