用离子束辅助沉积对Si进行金属化 |
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引用本文: | 何建宏,曹育文.用离子束辅助沉积对Si进行金属化[J].电子工艺技术,1995(4):26-27,48. |
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作者姓名: | 何建宏 曹育文 |
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作者单位: | 清华大学材料科学与工程系 |
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摘 要: | 本文用IBAD-PVD复合方法在单晶硅上制备了Cr/Ni复合金属化层,研究了沉积工艺条件及退火对薄膜的界面结合强度和电阻率的影响,获得了界面结合强度高、电阻率低、抗热震性能好的Cr/Ni复合金属化膜,界面结合强度可达31MPa。
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关 键 词: | 集成电路 硅 金属化 离子束辅助沉积 VLSI |
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