沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响

为了研究沉积气压对多弧离子镀MoN涂层结构和性能的影响,优化涂层的制备工艺参数,现采用多弧离子镀技术通过改变沉积过程中N2的气压在硬质合金表面获得不同的Mo N涂层。分别采用GIXRD、SEM、维氏显微硬度计、UMT摩擦磨损实验机和划痕仪等对MoN涂层的物相结构、微观形貌、显微硬度、摩擦系数与膜基结合力等进行分析。结果表明:随着沉积气压的增大,涂层的相结构从γ-Mo_2N逐渐转化为δ-MoN,其中δ相(200)晶面衍射峰逐渐增强;膜层表面质量逐渐变好,膜基结合强度、平均摩擦系数均先增大后减小,相对于基体表现出了较好的摩擦性能。