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基于WO3/NiOx膜系的固态电致变色器件研究
引用本文:冯博学  何毓阳  陈冲,伞海生  刘化然  张欣  刘金良  唐为国  尹经敏.基于WO3/NiOx膜系的固态电致变色器件研究[J].功能材料,2004,35(Z1):1413-1417.
作者姓名:冯博学  何毓阳  陈冲  伞海生  刘化然  张欣  刘金良  唐为国  尹经敏
作者单位:冯博学(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);何毓阳(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);陈冲(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);伞海生(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);刘化然(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);张欣(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);刘金良(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);唐为国(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000);尹经敏(兰州大学,教育部应用磁学与磁性材料重点实验室,甘肃,兰州,730000)
基金项目:国家自然科学基金资助项目(69876018)
摘    要:氧化钨和氧化镍是目前研究最多、应用最广的两种电致变色材料.本文详细地介绍了本实验室射频溅射WO3和NiOx薄膜的制备和性能以及以它们为基的夹层式固态电致变色器件的制作和性能.

关 键 词:WO3  NiOx  电致变色  射频溅射  电解质
文章编号:1001-9731(2004)增刊-1413-05
修稿时间:2004年1月5日

Research on solid State electrochromic device based on WO3/NiOx films
FENG Bo-xue.Research on solid State electrochromic device based on WO3/NiOx films[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):1413-1417.
Authors:FENG Bo-xue
Abstract:
Keywords:
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