| 化学溶液沉积法制备Bi4Ti3O12铁电薄膜及其性质的研究 |
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| 引用本文： | 肖卓炳,吴显明,王弘,王卓,尚淑霞,王民.化学溶液沉积法制备Bi4Ti3O12铁电薄膜及其性质的研究[J].化学世界,2001,42(6):283-285. |
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| 作者姓名： | 肖卓炳 吴显明 王弘 王卓 尚淑霞 王民 |
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| 作者单位： | 1. 吉首大学生化学院
2. 山东大学 |
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| 摘 要： | 报道了用化学溶液沉积法采用价格低廉的原料在电阻率为 6～ 9Ω·cm的 n型 Si( 1 0 0 )衬底上生长 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,并对薄膜的性质进行了研究。结果表明此制膜工艺简单 ,成本低 ,制备的 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜具有较低的结晶温度 ,且薄膜均匀 ,致密 ,无裂纹。在 650°C下退火 30 min时得到的 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜具有良好的绝缘性和铁电性 ,薄膜的剩余极化 Pr=4.9μC/cm2 ,矫顽电场 Ec=87k V/cm
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| 关 键 词： | 化学溶液沉积法 铁电薄膜 X射线衍射 钛酸铋 性质 铁电材料 绝缘性 铁电性 |
Preparation and Characterization of Bi4Ti3O12 Thin Films by Chemical Solution Deposition Technique |
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| XIAO Zhuo bing ,WU Xian ming ,WANG Hong ,WANG Zhuo ,SHANG Shu xia ,WANG Min.Preparation and Characterization of Bi4Ti3O12 Thin Films by Chemical Solution Deposition Technique[J].Chemical World,2001,42(6):283-285. |
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| Authors: | XIAO Zhuo bing WU Xian ming WANG Hong WANG Zhuo SHANG Shu xia WANG Min |
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| Affiliation: | XIAO Zhuo bing 1,WU Xian ming 1,WANG Hong 1,WANG Zhuo 2,SHANG Shu xia 2,WANG Min 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CSD ferroelectric thin film X ray diffraction |
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