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生长条件对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响
引用本文:苏清磊,董伟伟,陶汝华,邓赞红,方晓东. 生长条件对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响[J]. 有色金属, 2007, 59(3): 17-20
作者姓名:苏清磊  董伟伟  陶汝华  邓赞红  方晓东
作者单位:中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031
基金项目:中国科学院"百人计划"
摘    要:采用脉冲激光沉积法在蓝宝石(001)衬底上沉积ZnO薄膜,研究衬底温度、激光能量和氧气压力对样品结构和表面形貌以及光致发光的影响.X射线衍射(XRD)表明,在沉积温度范围内(600~900℃)所有样品都具有c轴高度择优取向.扫描电镜(SEM)的测试结果表明,激光能量和氧气压力对薄膜表面形貌的影响显著.在所有样品的室温光致发光谱(PL)均观察到单一 的380nm紫外光发射,深能级发射被强烈抑制.

关 键 词:材料合成与加工工艺  ZnO薄膜  脉冲激光沉积  表面形貌  光致发光
文章编号:1001-0211(2007)03-0017-04
收稿时间:2005-11-29
修稿时间:2005-11-29

Effect of Growth Conditions on Properties of ZnO Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
SU Qing-lei,DONG Wei-wei,TAO Ru-hua,DENG Zan-hong,FANG Xiao-dong. Effect of Growth Conditions on Properties of ZnO Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Nonferrous Metals, 2007, 59(3): 17-20
Authors:SU Qing-lei  DONG Wei-wei  TAO Ru-hua  DENG Zan-hong  FANG Xiao-dong
Affiliation:Anhui Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Science, Hefei 230031, China
Abstract:
Keywords:material synthesis and working technology   ZnO thin film   pulsed laser deposition   surface morphology   photoluminescenee
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