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| 关于TN型TFT-LCD中周边Mura的分析与改善 | |
| 引用本文： | 高荣荣,姚成宜,叶超前,马程,刘俊豪,郭红光.关于TN型TFT-LCD中周边Mura的分析与改善[J].电子世界,2014(18):160-160. |
| 作者姓名： | 高荣荣 姚成宜 叶超前 马程 刘俊豪 郭红光 |
| 作者单位： | 合肥京东方光电科技有限公司 |
| 摘 要： | 周边Mura在TN型TFT-LCD(Thin film transistor-liquid crystal display)生产中较为常见的一种不良,对画面品质影响较大,文章结合实际生产情况对周边Mura发生的原因进行理论分析和实验验证,周边Mura为光学性不良,通过调整Rubbing强度或者是增加Rubbing Cloth的恢复力等手法验证改善。最终实验得出在实际生产过程中调整Rubbing Cloth厚度和Aging时间,不良率降低80%以上,提高了产品品质。 |
| 关 键 词： | TFT-LCD Muar Rubbing Cloth |
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