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| 电子束曝光技术发展概况 | |
| 引用本文： | 张建宏,刘明.电子束曝光技术发展概况[J].世界产品与技术,2002(4):27-29. |
| 作者姓名： | 张建宏 刘明 |
| 作者单位： | 中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室 (张建宏)，中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室(刘明) |
| 摘 要： | 电子束曝光技术是近30年来发展起来的一门新兴技术,它集电子光学、精密机械、超高真空、计算机、自动控制等近代高新技术于一体,是推动微电子技术和微细加工技术进一步发展的关键技术之一,电子束曝光技术已成为一个国家整体技术水平的象征。先进的电子束曝光机主要用于0.1～0.5微米的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光。电子束曝光技术广泛地应用于高精度掩膜、移相掩膜及X射线掩膜制造;新一代集成电路的研究及ASIC的开发;新器件、新结构 |
| 关 键 词： | 电子束 曝光技术 微电子技术 SEM 高斯扫描系统 成型束 抗蚀剂 |
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