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| 电子束曝光技术的应用 | |
| 引用本文： | 张建宏,刘明.电子束曝光技术的应用[J].世界产品与技术,2002(4):30-31. |
| 作者姓名： | 张建宏 刘明 |
| 作者单位： | 中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室 (张建宏)，中国科学院微电子中心制版与微细加工实验室(刘明) |
| 摘 要： | 电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术,它被广泛应用于航天通讯国防军工及超大规模集成电路等诸多领域。电子束曝光技术具有极高的分辨率,理论上甚至能达到原子量级。电子束曝光可以在基片上进行无掩膜直接曝光,具有极高的灵活性,因此是研制各种超微细结构器件的有力工具。目前先进的高性能电子束曝光系统主要用于0.1～0.5微米的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光制作。 电子束曝光技术是在扫描电镜技术的基础上发展起来的,其原理是计算机控制电子束成像电镜及偏转系统, |
| 关 键 词： | 集成电路 掩膜版 微型器件制造 低微电子结构 电子束 曝光技术 应用 |
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