| 基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展 |
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| 引用本文： | 张思琪,周思翰,杨卓俊,许智,兰长勇,李春. 基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展[J]. 光学精密工程, 2022, 30(1): 12-30. DOI: 10.37188/OPE.20223001.0012 |
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| 作者姓名： | 张思琪 周思翰 杨卓俊 许智 兰长勇 李春 |
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| 作者单位： | 电子科技大学光电科学与工程学院,四川成都011699;中国科学院物理研究所松山湖材料实验室,广东东莞523429 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No.61475030,No.61975024)。 |
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| 摘 要： | 基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一.近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术.由于可灰度调制的光反射式"数字掩膜"替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控...
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| 关 键 词： | 无掩膜光刻 空间光调制器 数字微镜器件 分辨率增强 灰度光刻 微立体光刻 |
Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices |
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| ZHANG Siqi,ZHOU Sihan,YANG Zhuojun,XU Zhi,LAN Changyong,LI Chun. Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices[J]. Optics and Precision Engineering, 2022, 30(1): 12-30. DOI: 10.37188/OPE.20223001.0012 |
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| Authors: | ZHANG Siqi ZHOU Sihan YANG Zhuojun XU Zhi LAN Changyong LI Chun |
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| Affiliation: | (School of Optoelectronic Science and Engineering,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 011699,China;Songshan Lake Materials Laboratory,Institute of Physics,Chinese Academy of Sciences,Dongguan 523429,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | maskless lithography spatial light modulator digital micromirror device resolution enhancement grayscale lithography micro-stereo lithography |
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