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| ITO膜的制备及性能研究 | |
| 作者单位： | ;1.中国电子科技集团第三十三研究所;2.太原科技大学应用科学学院 |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm～700 nm厚的系列透明导电ITO(In_2O_3∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%～87%,方阻在1.4Ω/～44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大的关系,在高频阶段屏蔽效能随膜厚的增加而增大。 |
| 关 键 词： | ITO薄膜 膜厚 透光率 方块电阻 电磁屏蔽 |
The preparation and properties of ITO films |
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| Keywords: | |