无取向立式磁屏蔽的性能分析和实验研究 |
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作者姓名: | 赵志刚 魏鹏 戎静怡 李兴 刘慧敏 |
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作者单位: | 电磁场与电器可靠性省部共建重点实验室河北工业大学 |
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摘 要: | 本文基于P21c-M1磁屏蔽模型,对工频下不同电流激励无取向立式磁屏蔽和取向立式磁屏蔽的屏蔽效果进行对比分析,研究无取向磁屏蔽在变压器磁屏蔽中的适用性。本研究中,采用激励线圈精确建模的方式,从总损耗中分离出激励线圈负载损耗,从而得到较为准确的磁屏蔽构件的损耗值。实验和仿真结果表明,在相同电流激励下,由于两种硅钢片的磁性能差异,无取向立式磁屏蔽的屏蔽效果相较于取向立式磁屏蔽有微小的差异。
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