| 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究 |
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| 引用本文： | 冯宗财,王跃川,陈毅敏,陈波,杜春蕾. 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究[J]. 影像技术, 2001, 0(3): 12-14 |
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| 作者姓名： | 冯宗财 王跃川 陈毅敏 陈波 杜春蕾 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学高分子材料工程国家重点实验室成都 610065) (四川大学高分子材料科学与工程系
2. 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都 610209 |
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| 摘 要： | 将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光致抗蚀剂，因其独特的三维结构而具有低粘度，高活性使抗蚀剂膜收缩率小，而具有良好的成像显影性。通过控制合适的对脂酸值及成像显影条件，可得到良好断面的图像，并且抗蚀剂线条图分辨率可达～1um。当光源分别为平行光和点光源时图像清晰程度不一样：平行光比点光源好。
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| 关 键 词： | 感光聚合物 抗蚀剂 光成像 光刻胶 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯 集成电路 刻蚀 |
| 修稿时间： | 2000-12-01 |
A Study on the Properties and Imaging Behavior of Highly Branched Alcali-solublePolyacrylate Photoresist |
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| Feng Zhongcai Wang Yaochuan Chen Yim in. A Study on the Properties and Imaging Behavior of Highly Branched Alcali-solublePolyacrylate Photoresist[J]. Image Technology, 2001, 0(3): 12-14 |
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| Authors: | Feng Zhongcai Wang Yaochuan Chen Yim in |
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| Abstract: | Highly branched alcali -soluble polyacrylate resins possess specific t ri -dimensional structure,thus perform low visosity;their high activity can decrease the contraction rate of ph otoresist layer;consequently these resins can exhibit good image developement beh avior.Through proper setting the acid value of the resin and the imaging a nd development conditions,excellent section picture can be obtained,yie lding a high resolving power of l mi-cron.Lighting conditions are attac hed. |
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| Keywords: | highly -branched photo -polymer photoresist photo -imaging |
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